课题组韩佳城同学首次采用“自下而上法”合成硼量子点，平均尺寸约为6.4nm，应用于闪存器件中具有低误读率等优势。该成果在线发表在RSC高水平学术刊物CrystEngComm上，CrystEngComm为SCI收录、中科院二区期刊，影响因子3.545。

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